株式会社図研
全ての電気・電子機器設計を支えるプラットフォームへと進化し続けているDS-2は、デジタル・トランスフォーメーションの大きな流れの中で、クラウドやAIなどのITトレンドと融合し、よりよい設計環境となるためのデジタル化を強力 …
アーカイブ: 講演情報アーカイブ
AI(人工知能)の次世代設計への活用の取り組み
Zuken Technology Center
近年、AI(人工知能)は今まで困難とされていた問題を次々と解き、様々な分野で活用され始めています。これらの技術は、EDAにどのように応用できるでしょうか？ 図研は複数の領域でEDA/PLM領域にAIを活用するための研究プ …
CR-8000 Design Force ロードマップ Part3 (SIP設計, SOC/PKG/PCB協調設計)
株式会社図研
急速進化する自動運転技術、IoTによるネットワークと通信技術の進化、AIの進化と連動して応用が進む画像認識技術など、高度な複合モジュールが必要とされる領域が大きく広がっています。 CR-8000 Design Force …
CR-8000 Design Force ロードマップ Part2（SI/PI解析、エレメカ協調、解析連携）
株式会社図研
高機能化/省電力化/小型高密度化が進む現在、エレキとメカの両方を考慮した設計/検証が必須となっています。CR-8000 Design Forceでは、ネィティブ3D環境を活かしたエレキ/メカ混在環境での配置配線設計や検証 …
CADVANCE製品のロードマップ
株式会社図研
あらゆるモノがネットでつながるIoTやAIを活用する「第4次産業革命」は、エレクトロニクスに高度な要求をもたらします。省電力化と小型化、機能が複合化する電子機器の設計には、最新テクノロジーに対応した設計環境の実現が不可欠 …
CR-8000 Design Force ロードマップ Part1 (PCB設計)
株式会社図研
電子機器の複合化・大規模化に伴い、昨今のPCB設計では基板単体の効率的な設計に加えて、複数の基板やメカ情報を含めたシステムレベルでの設計や検証が求められております。最新の Design Force の最新技術トレンド対応 …
図研が提案するモジュラーデザインへの取り組みとMBSEへの発展
株式会社図研
製品開発における複雑な要求は日々増しており、更なる高い品質が求められる状況の中、設計者個々の部分最適化が限界に近づいています。「製品のシステム開発を成功に導く」ためには、設計の上流からシステムを全体最適化し、設計IPを最 …
DS-E3によるワイヤーハーネス設計プロセス革新とロードマップ
株式会社図研
電気制御・ケーブル設計ソリューションである統合電気CAD「E3.series」の設計データを効率的に管理し、設計プロセスの効率化を図る「DS-E3」の概要と今後の製品開発ロードマップを紹介します。 …
CR-8000 System Planner/Design Gatewayロードマップ
株式会社図研
開発する製品の高機能、大規模、複雑化する中、設計効率化や上流工程での設計完成度アップやトレーサビリティ確保に向けて回路ブロックを用いたモジュラーデザインへの取り組みが近年、本格的に開始されています。本セッションでは最新の …
CR-8000 DFM Center ロードマップ
株式会社図研
PWB製造メーカー、EMSメーカー、部品実装部門ではビックデータの活用やスマートファクトリー構想などを推し進めています。そのような市場ニーズのなかで、CR-8000 DFM Centerが目指す「繋がる/繋げる」のテーマ …
